加熱制冷循環(huán)器（-20℃～180℃）$n實現(xiàn)高溫195℃，低溫-20℃恒溫測試，為用戶提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個量程范圍的溫度精確控制，恒溫波動度達到±0.1℃， 應用于石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制，半導體擴散爐擴散工藝控制，對反應釜、全自動合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環(huán)應用。

高低溫恒溫槽（-40℃～180℃）實現(xiàn)高溫195℃，用于石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制，對反應釜、全自動合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環(huán)應用，低使用溫度-40℃

MGD40-30-高低溫恒溫循環(huán)槽（-40℃～180℃）為用戶提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源， 應用于-40℃～180℃（高至溫度195℃）石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制，半導體擴散爐擴散工藝控制，對反應釜、全自動合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環(huán)應用